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SXEN-2008光亮快速化學鍍液

2016-05-06

　　SXEN-2008超光亮是我公司最新研發的產品，經過我們幾年的自主開發，鍍液在光亮、鍍速、循環壽命、問題上都有重大突破，應用范圍已包括了工業生產的各個領域。

一 SXEN-2008化學鍍鎳濃縮液的特點:
1. 溶液穩定性好，循環壽命長，可達15-20（MTO）循環，（循環含義為每升鍍液將全部鎳鍍出再補加到開缸時的鎳含量稱為一個循環）；
2. 鍍層外觀光亮，孔隙率低；
3. 沉積速度快，鍍速均衡穩定，鍍速均可達18-25μm/h；
4. 深鍍能力強、均鍍能力強，完全達到“仿型效果”；
5. 鍍液穩定，槽底無沉積；
6. 電磁屏蔽性能好，可用于電子元件及計算機硬盤；
二 SXEN-2008化學鍍鎳層的性能
磷含量                   6-9%（wt）
電阻率                   60-75μΩ·cm
結合力                   400Mpa遠遠高于電鍍
內應力                   鋼上內應力低于7Mpa
密度                      7.9 g/cm3
溶點                      860-880℃
硬度     鍍態           HV500-550
           熱處理后     HV1000    （400℃）
三SXEN-2008使用方法
   本產品采用國際通用的A、B、C三種溶液，開缸及維護容易。
1、 開缸方法
以配制1升工作液為例
SX2008 MA     100ml 
SX2008 MB     100ml
                  最佳                        范圍
鎳離子        6g/L                        5-6g/L
溫度           88℃                        83-90℃
PH             4.6                          4.4-4.8
裝載量        1 dm2/L                  0.5-2.5 dm2/L
攪拌          過濾空氣或機械攪拌
去離子水      電導率低于5μs/cm 
2、槽液的配制方法：
(1) 在干凈的鍍槽內加入一半體積的去離子水
(2) 加入10%的SXEN-2008 A液，攪拌均勻
(3) 加入10%的SXEN-2008 B液，攪拌均勻
(4) 剩余加去離子水到所需體積，攪拌均勻
(5) 用氨水調節PH值至4.4-4.8
(6) 加熱鍍液至85-88℃，溶液即可使用
3、鍍液的分析及補加:
<1>用移液管取5ml工作液放入250ml的錐形瓶中,加入50ml去離子水；
<2>加入10ml濃氨水到錐形瓶中，搖勻；
<3>加入0.02g紫脲酸銨指示劑,繼續搖勻；
<4>用濃度為0.05M的EDTA標準溶液滴定至棕色轉為紫色為終點；
<5>計算公式：
（6-EDTA用量×0.59）×16×開缸體積(L)=補加A量=補加C量（ml）；
也可查下表
Ni2＋分析量
補加A量
ml/L
補加C量
ml/L
Ni2＋活度(%)
EDTA用量(ml)
Ni2＋濃度(g/L)
100
10.2
6.0
0
0
95
9.7
5.7
4.8
4.8
90
9.2
5.4
9.6
9.6
85
8.7
5.1
14.4
14.4
80
8.2
4.8
19.2
19.2
75
7.7
4.5
24
24
70
7.2
4.2
28.8
28.8

四、產品應用范圍：
本品廣泛應用于油田、紡織機械、計算機、電子工業、航空航天、醫療器械、模具、汽車工業等防腐。